Silicijumske pločice su vrsta poluprovodničkog materijala koji se široko koristi u elektronici, računarima, komunikacijama, automobilima, vazduhoplovstvu i drugim poljima. Silicijumske pločice su klasifikovane na poluvodičke silikonske pločice i fotonaponske silikonske pločice prema čistoći silicijumskih pločica; klasificiraju se na polirane pločice, žarene pločice, epitaksijalne pločice i SOI pločice prema postupku; prema veličini se dijele na 12 inča\300mm, 8 inča\200mm i 6 inča\150mm, među kojima silikonske pločice od 200mm i 300mm imaju širi spektar primjene.
Klasifikacija silicijumskih pločica |
||
| Kriteriji klasifikacije | Kategorije proizvoda | uvesti |
| Klasifikacija prema čistoći silicijumske pločice | Poluprovodničke silikonske pločice Fotonaponske silikonske pločice |
1. Poluprovodničke silikonske pločice su važan materijal za izradu integrisanih kola. Fotolitografijom, ionskom implantacijom i drugim metodama mogu se napraviti integrirana kola i razni poluvodički uređaji. 2. Fotonaponske silikonske pločice su silikonske pločice koje se koriste u fotonaponskom polju. U fotonaponskom polju, silicijumske pločice se uglavnom koriste za dovršetak konverzije sunčeve energije u električnu energiju. |
| Klasifikacija po procesu | „Uglačana oblanda Žarena oblanda Epitaksijalna pločica SOI wafer" |
1. Oblatne za poliranje su najčešće korišteni, najčešće korišteni i najosnovniji proizvodi. Ostali proizvodi od silicijumskih pločica proizvode se sekundarnom preradom na bazi poliranja pločica. 2. Žarene pločice se dobijaju žarenjem polirnih pločica u okruženju visoke temperature ispunjenom argonom ili kiseonikom. Ovo može uvelike smanjiti sadržaj kisika na površini polirne pločice, čime se postiže bolji integritet kristala i zadovoljavaju viši zahtjevi za jetkanje poluvodiča. 3. Epitaksijalne pločice koriste tehnologiju rasta u parnoj fazi na površini pločice za poliranje kako bi epitaksijalno izrasle jedan sloj strukture proizvoda na površini pločice za poliranje, tako da će njena površina biti glatkija od polirne pločice odrezane od rezanja, čime se smanjuje površina defekti. 4. SOI pločice su sendvič strukture, to jest, donji sloj je polirna pločica, srednji je ukopani oksidni sloj, a gornji sloj je aktivni sloj polirne pločice, koji može postići visoku električnu izolaciju, čime se smanjuje parazitski kapacitet i curenje. |
| Klasifikacija prema veličini | 1 2 inča \ 3 0 0 mm 8 inča \ 2 0 0 mm 6 inča \ 1 5 0 mm |
1. Uglavnom se koristi u vrhunskim proizvodima, kao što su CPU, GPU i drugi logički čipovi i memorijski čipovi, što je glavna veličina na trenutnom tržištu, sa tržišnim udjelom od oko 65~70%. 2. Uglavnom se koristi u low-end i mid-end proizvodima, kao što su čipovi za upravljanje napajanjem, MCU, energetski poluvodiči, itd., sa tržišnim udjelom od oko 25~27%. 3. Uglavnom se koristi u low-end i mid-end proizvodima, kao što su energetski poluvodiči, sa tržišnim udjelom od skoro 6~7% |
Silicijumske pločice se prema čistoći dijele na poluvodičke silikonske pločice i fotonaponske silikonske pločice. U fotonaponskom polju se koriste i monokristalni i polikristalni silicijum, sa zahtjevom za čistoćom od oko 99,9999% (4-6N). Uglavnom se koriste za pravljenje solarnih ćelija i naširoko se koriste u fotonaponskim elektranama, krovnoj distribuiranoj fotonaponskoj proizvodnji energije i drugim poljima. U polju poluprovodnika koristi se samo monokristalni silicijum. Kako njegov proces nastavlja da se skuplja, njegova čistoća je potrebna da dostigne 99,999999999% (11N) ili više. Uglavnom se koristi za proizvodnju čipova i naširoko se koristi u komunikacijama, potrošačkoj elektronici, automobilima, industriji i drugim poljima. U klasifikacijskom indeksu čistoće silicijumske pločice, ona je klasifikovana prema različitim nivoima čistoće, a ppm (tj. delovi na milion) se obično koristi za merenje njene čistoće. Silicijumske pločice se koriste za kristalni silicijum, poluprovodnički silicijum, elektronski silicijum, industrijski silicijum, silicijum za proizvodnju, opšti silicijum, itd. prema različitim čistoćima.
Poređenje između poluvodičkih silikonskih pločica i fotonaponskih silikonskih pločica |
|||||
| Prijave | Standardi čistoće | Vrste silikonskih sirovina | Standardi površine | Oblici i veličine | Prijave |
| Poluprovodnici | 99.999999999%(11N) | Monokristalni silicijum | Ravnost i glatkoća se kontrolišu unutar 1nm | Okrugla, prečnika 150, 200, 300 mm | Uglavnom se koristi za proizvodnju čipova, široko se koristi u komunikacijama, potrošačkoj elektronici, automobilima, industriji itd. |
| Fotonaponski | 99.9999%左右(4-6N) | Postoje i monokristalni silicijum i polikristalni silicijum, od kojih polikristalni silicijum čini oko 60%. | Standardi su niži od onih u polju poluprovodnika | Kvadratne, bočne dužine mogu biti 125 mm, 150 mm i 156 mm | Uglavnom se koristi za izradu solarnih ćelija, široko se koristi u fotonaponskim elektranama, krovnoj distribuiranoj fotonaponskoj proizvodnji energije i drugim poljima |
Indeks klasifikacije čistoće silicijumske pločice |
||
| Nivo čistoće silicijumske pločice | Čistoća silikonske pločice | Nečistoće silikonske pločice |
| 6N nivo | Čistoća je 99,9999% | To jest, nečistoće ne prelaze 10 ppm |
| 7N nivo | Čistoća je 99,99999% | Odnosno, nečistoće ne prelaze 1ppm |
| 8N nivo | Čistoća je 99,999999% | To jest, nečistoće ne prelaze 0.1ppm |
| 9N nivo | Čistoća je 99,9999999% ili više | To jest, nečistoće ne prelaze 0.01ppm |
Indeks čistoće silicijumske pločice prema primeni |
|
| Klasifikacija prema čistoći primjene | Specifični indikatori |
| Kristalni silicijum | Kristalni silicijum se sintetiše od dijamanta i silicijum peska, a čistoća proizvoda dostiže 99,999%. |
| Poluprovodnički silicijum | Poluprovodnički silicijum se dobija daljom obradom kristalnog silicijuma. Čistoća poluprovodničkog silicijuma je visoka kao 99,9999%, što je nadograđena verzija kristalnog silicijuma. |
| Elektronski silicijum | Elektronski silicijum se koristi za proizvodnju elektronskih uređaja. Njegova čistoća dostiže 99,999999%. Elektronski silicijum ima 6 više 9s od kristalnog silicijum, takođe poznat kao silicijum šest-devet stepena. |
| Industrijski silicij | Industrijski silicij se koristi za proizvodnju industrijskih dijelova. Njegova čistoća generalno dostiže 99,99%-99.999%, što je nešto lošije od kristalni silicijum. |
| Silicijum za proizvodnju | Za proizvodnju proizvodnih dijelova koristi se silicij za proizvodnju. Njegova čistoća je općenito između 99,95%-99.99%, što je nešto lošije od kristalni silicijum. |
| Generalni silicijum | Opšti silicijum je češći silicijum. Njegova čistoća je općenito između 99%-99.8%, što je najčešća silicijumska supstanca. |
