Metoda pripreme solarne ćelije amorfnog silicija

Postoje mnoge metode za amorfne silicijumske solarne ćelije, uključujući plazmom pojačano hemijsko taloženje pare, reaktivno raspršivanje, užareno pražnjenje, isparavanje elektronskim snopom i termičku razgradnju silana.
1. Metoda reaktivnog raspršivanja: Prvo, koristite infracrveni laser za lasersko ispisivanje TCO vodljive staklene podloge; nakon laserskog pisača izvršite ultrazvučno čišćenje; nakon čišćenja podloge, stavite je u poseban uređaj za taloženje i gurnite u pećnicu radi predgrijavanja; predgrijavanje Fiks za post taloženje se gura u vakuumsku komoru za taloženje PECVD, a amorfni silicijum se deponuje korišćenjem procesa PECVD taloženja; zatim se zeleni laser koristi za izvođenje drugog laserskog scribinga na nanesenoj amorfnoj silicijumskoj podlozi, a čišćenje se vrši nakon scribinga; zatim se očišćena podloga obloži kompozitnim filmom za stražnju metalnu elektrodu korištenjem PVD tehnologije, a sloj cinkovog oksida kao jedan od kompozitnih filmova metalne stražnje elektrode se taloži na površinu sloja amorfnog silicija, a drugi slojevi stražnje metalne elektrode se nanose na sloju cink oksida; zatim koristite zeleni laser da izvršite treće lasersko ispisivanje na podlozi sa nanesenom metalnom zadnjom elektrodom i očistite je nakon urezivanja. Do sada je formirana struktura čipa baterije; nakon toga se čip baterije laminira i pakira, te se postavljaju razvodna kutija i provodne žice. Na kraju, izvršite testiranje performansi na komponentama i spakujte kvalifikovane proizvode u kutije. Ovisno o veličini i specifikacijama proizvedenih fotonaponskih modula, proizvodni ciklus općenito traje tri do četiri sata.
2. Metoda hemijskog taloženja pomoću plazme: niz komora za taloženje se koristi za formiranje kontinuiranog programa u proizvodnji kako bi se postigla masovna proizvodnja. Istovremeno, amorfna silicijumska solarna ćelija je vrlo tanka i može se napraviti u naslagani tip, ili proizvesti metodom integrisanog kola. Na ravni, sa odgovarajućim postupkom maske, može se napraviti više ćelija u seriji istovremeno kako bi se dobio veći napon.
3. Metoda svjetlećeg pražnjenja: kvarcna posuda se evakuira, napuni silanom razrijeđenim vodonikom ili argonom, zagrije se izvorom energije radio frekvencije kako bi se jonizirao silan kako bi se formirala plazma, a amorfni silicijumski film se taloži na zagrijanu supstratu superiornu.